真空鍍膜是半導體芯片制作過程中必不可少的一道工序。由于其溫度要求高，腔體小，所以Supcold專門設計了超低溫類型的設備以滿足半導體鍍膜的需求。該種類設備溫度低，制冷快。同時該設備是雙路輸出，可以同時滿足對MC和LC真空室的制冷。